APS-100超聲法粒度儀在ZnO納米顆粒和ZnO-EG納米流體方面的應用
APS-100超聲法粒度儀在ZnO納米顆粒和ZnO-EG納米流體方面的應用金屬氧化物納米結構因其在太陽能電池、電致發光器件、電致變色窗口和化學傳感器等許多技術中的潛在應用而引起人們的廣泛關注。此外,聲音通過隨機介質傳播也成為人們關注的課題,這些介質包括膠體懸浮液、多孔材料、磁流變介質和納米流體,其中納米流體由于其在不同領域的廣泛應用而引起了人們的極大興趣。有研究者對ZnO納米顆粒和ZnO-EG、ZnO-water納米流體進行了研究。研究過程中分別采用了XRD、SEM、TEM對...原液Zeta電位分析儀用于CMP過程中顆粒電荷對材料去除率影響的檢測
原液高濃度Zeta電位分析儀用于化學機械拋光(CMP)過程中顆粒電荷對材料去除率影響的檢測在宏觀尺度長度下,拋光過程中的材料去除率(dh/dt)被普雷斯頓方程描述為:dh/dt=kpσoVr,其中kp是普雷斯頓系數,σo是施加的壓力,Vr是拋光顆粒相對于工件表面的平均速度。然而,光學拋光過程涉及工件、漿料和搭接之間在多個尺度長度上的一系列復雜的相互作用。因此,普雷斯頓系數代表了眾多拋光參數的集合,包括工件材料、漿料顆粒組成、漿料粒度分布(PSD)、漿料化學、焊盤形貌和焊盤機械...電話
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